芯片在电子产品中起到控制、运算、存储信息等重要作用，作为电子产品的核心组件之一，芯片的重要性自然不言而喻，很大程度来讲，芯片的发展历程推动了整个电子产品的发展，从相对简单的数字化电子产品到复杂的智能电子产品，芯片始终是推动技术发展的核心动力。此外，芯片技术的进步也推动了全球经济的发展，因此芯片半导体产业已经上升为我国重要的发展战略。

光刻机是芯片制造的关键设备，其工作原理基于光学技术和化学技术，光刻机通过紫外线光来投影图像，并通过光学系统将图像转移到特定的基板表面上。高端光刻机的制造难度丝毫不亚于原子弹，放眼全球，也只有ASML、Canon、Nikon、SMEE等几家公司具备生产光刻机的能力。

值得注意的是，SMEE是一家来自中国的光刻机制造商，该公司成立于2002年。2012年，SMEE公司生产的SSB500系列光刻机首次实现海外销售，2018年，SMEE 90nm光刻机项目通过正式验收。就在近日，SMEE向昆山同兴达交付了2台光刻机，1800万元的单价在光刻机领域也算十分亲民了，要知道从国外进口的同级别光刻机远不止这个价。

从SMEE官方资料来看，该公司目前生产的光刻机最高分辨率只能达到90nm。英特尔于2004年发布的奔腾4处理器就采用90nm制程工艺制造，也就是说，在光刻机领域，我国和西方国家还有20年左右的差距，全球半导体市场仍然以美国、日本、韩国等国家为主导，中国半导体产业的发展还有很大潜力。

不可否认，ASML生产的EUV光刻机依旧是天花板级别，在西方国家的阻挠下，ASML被禁止向中国地区销售EUV光刻机，就连芯片代工也被禁止，在这样的恶劣环境下，国产光刻机的交付无疑是令人振奋的，虽然90nm制程工艺的芯片主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、Wi-Fi芯片、射频芯片等相对简单的半导体电子产品，但有和没有完全是两个概念。

从技术层面来讲，90nm光刻机除了可以生产90nm制程工艺的芯片之外，如果曝光两次就可以达到45nm芯片的水平，如果曝光三次就可以达到22nm芯片的水平，只要将良品率控制在合理范围内，理论上90nm光刻机可以生产28nm左右制程工艺的芯片。

总结：光刻机是半导体产业发展的重要设备，国产光刻机的交付使用是中国半导体产业的一个重要里程碑。光刻机的使用将带来更高的生产效率、更多的创新机会、更强的国际竞争力，在未来，中国半导体产业将随着光刻机制造技术的不断进步继续加速发展，推动中国半导体产业的整体升级，正如比尔·盖茨所说，用技术壁垒限制中国企业，只会加快中国企业的自主研发速度，制裁围堵也只是搬起石头砸自己的脚！